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Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
Standard in brief
Scope of Application：
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
Basic information
Standard No：YS/T 719-2009
Standard Name：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
English Name：Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
Standard Status：现行
Release Date：2009-12-04
Effective Date：2010-06-01
Language of Publication：中文简体
Standard Classification
ICS Number：77.150.99
CCS Number：H63
Related Standards
Referenced Standards：GB/T 1551,GB/T 2040,GB/T 5121(所有部分),GB/T 5231,GB/T 12963
Publication Information
Number of pages：8
Number of words：7 K
Format：大16
Edition：1
Color Pages：0
Electronic Version：Yes
Color Images：No
Print Publication Date：2010-03-01
Standard Revision Information
Has Amendment：No
Other Information
Application Dept：中华人民共和国工业和信息化部
Standard Type：QT
Standard Attribute：YS
Other Standard Number：719
Drafter：李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦
Drafting Organization：利达光电股份有限公司
Management Organization：全国有色金属标准化技术委员会
Proposing Department：全国有色金属标准化技术委员会
