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Terms of microlithography technology for microelectronics
Standard in brief
Scope of Application：
本文件界定了微电子学微光刻技术有关的微电子光刻技术，先进光刻技术，微光刻图形化和图形数据处理技术，微光刻感光材料、铬板与基板材料，光掩模技术，光刻工艺（曝光、刻蚀与微纳米加工）技术，电子束掩模制造与直写技术，光刻及掩模质量参数测量和评定，掩模制造设备和微光刻设备等术语和定义。
本文件适用于微电子学微光刻技术领域的教学、科研、生产、应用、贸易和技术交流。
Basic information
Standard No：GB/T 44928-2024
Standard Name：微电子学微光刻技术术语
English Name：Terms of microlithography technology for microelectronics
Standard Status：现行
Release Date：2024-12-31
Effective Date：2024-12-31
Language of Publication：中文简体
Standard Classification
ICS Number：31.030
CCS Number：L90
Publication Information
Number of pages：192
Number of words：351 K
Format：大16
Edition：1
Color Pages：0
Electronic Version：Yes
Color Images：No
Print Publication Date：2024-12-01
Standard Revision Information
Has Amendment：No
Other Information
Application Dept：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
Standard Type：CN
Standard Attribute：GB
Other Standard Number：44928
Drafter：陈宝钦、王香、李和委、王力玉、李新涛、冯伯儒、薛丽君、郝美玲、薛彩荣
Drafting Organization：中国科学院微电子研究所
Management Organization：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
Proposing Department：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
