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Trichlorosilane for silicon epitaxial
Standard in brief
Scope of Application：
本文件规定了硅外延用三氯氢硅（SiHCl 3）的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、随行文件及订货单内容。
本文件适用于以三氯氢硅为原料精制提纯而制得的硅外延用三氯氢硅（以下简称产品）。
Basic information
Standard No：GB/T 30652-2023
Standard Name：硅外延用三氯氢硅
English Name：Trichlorosilane for silicon epitaxial
Standard Status：现行
Release Date：2014-12-31
Effective Date：2024-03-01
Language of Publication：中文简体
Standard Classification
ICS Number：29.045
CCS Number：H83
Related Standards
Referenced Standards：GB 190,GB/T 191,GB/T 1551,GB/T 3723,GB 12463,GB/T 14264,GB 15258,GB/T 16483,GB/T 24581,GB/T 26571,GB/T 28654,GB/T 29056,GB/T 29057,GB 30000.19,YS/T 987,YS/T 1059,YS/T 1060
Publication Information
Number of pages：12
Number of words：19 K
Format：大16
Edition：1
Color Pages：0
Electronic Version：Yes
Color Images：No
Print Publication Date：2023-08-01
Standard Revision Information
Has Amendment：No
Other Information
Application Dept：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
Standard Type：CN
Standard Attribute：GB
Other Standard Number：30652
Drafter：万烨、赵雄、严大洲、刘见华、张园园、李素青、李建新、李飞明、冯永平、孙任靖、张斌、顾广安、于生海、邓远红、徐岩、李楷东、刘文明、李明达、付梦月、邱艳梅、边红利、史隽涛、梁秋鸿
Drafting Organization：洛阳中硅高科技有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、上海亿钶气体有限公司、南京国盛电子有限公司、唐山三孚电子材料有限公司、上海新昇半导体科技有限公司、上海晶盟硅材料有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、武汉新硅科技潜江有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、中电晶华(天津)半导体材料有限公司、昊华气体有限公司、新疆新特新能材料检测中心有限公司、青海中航硅材料有限公司、沁阳国顺硅源光电气体有限公司、江西晨光新材料股份有限公司
Management Organization：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
Proposing Department：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
