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Tantalum sputtering targets
Standard in brief
Scope of Application：
本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。
本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材(以下简称钽靶材)。
Basic information
Standard No：YS/T 1024-2015
Standard Name：溅射用钽靶材
English Name：Tantalum sputtering targets
Standard Status：现行
Release Date：2015-04-30
Effective Date：2015-10-01
Language of Publication：中文简体
Standard Classification
ICS Number：77.150.99
CCS Number：H63
Related Standards
Referenced Standards：GB/T 1804,GB/T 4340.1,GB/T 6394,GB/T 8651,GB/T 15076.8,GB/T 15076.13,GB/T 15076.14,GB/T 15076.15,GB/T 20967-2007,YS/T 837,YS/T 899
Publication Information
Number of pages：12
Number of words：16 K
Format：大16
Edition：1
Color Pages：0
Electronic Version：Yes
Color Images：No
Print Publication Date：2015-10-01
Standard Revision Information
Has Amendment：No
Other Information
Application Dept：中华人民共和国工业和信息化部
Standard Type：QT
Standard Attribute：YS
Other Standard Number：1024
Drafter：钟景明、李桂鹏、汪凯、李兆博、姚力军、熊晓东、王莉、宿康宁、王小青、杜铁路
Drafting Organization：宁夏东方钽业股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司、西安方科新材料科技有限公司
Management Organization：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
Proposing Department：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
