Gases for electronic industry—Silicon tetrafluoride
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料，也是生产多晶硅的重要原料。
分子式：SiF4。相对分子质量：104.0786128（按2009年国际原子相对质量）。
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