Surface chemical analysis—Depth profiling—Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
IDT ISO 16531:2013
全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
本标准规定了在俄歇电子能谱（AES）和X射线光电子能谱（XPS）中使用惰性气体离子以保证溅射深度剖析具有好的深度分辨率以及最佳表面清洁效果而采取的离子束对准方法。这些方法分为两类：一类通过法拉第杯测量离子束流，另一类通过成像方法。法拉第杯方法也规定了离子束束流密度和束流分布的测量。这些方法不包括深度分辨率的优化。
这些方法均适用于束斑直径小于1 mm的离子枪。
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