Test method for carrier concentration of gallium nitride substrates—Raman spectrum method
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)
本标准规定了利用拉曼光谱测试N型氮化镓衬底片载流子浓度的方法。
本标准适用于在蓝宝石、碳化硅、硅、氮化镓材料上生长的N型氮化镓衬底片载流子浓度的测试。测试范围：1×1017 cm-3～1×1020 cm-3。
This standard is the original Chinese electronic standard.
After you successfully purchase, we will send the electronic version of this standard to your email address.
If you need translation, please contact email: ChineseStandardsLibraryS001@gmail.com
