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Chinese Standard: GB/T 6620-2009

Test method for measuring warp on silicon slices by noncontact scanning

MOD  SEMI MF657-0705

全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会

本标准规定了硅单晶切割片、研磨片、抛光片(以下简称硅片)翘曲度的非接触式测试方法。

本标准适用于测量直径大于50 mm,厚度大于180 μm的圆形硅片。

本标准也适用于测量其他半导体圆片的翘曲度。

本测试方法的目的是用于来料验收或过程控制。

本测试方法也适用于监视器件加工过程中硅片翘曲度的热化学效应。

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