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Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
Standard in brief
Scope of Application：
本文件详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×1016 atoms/cm3～1×1020 atoms/cm3。
Basic information
Standard No：GB/T 20176-2025
Standard Name：表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
English Name：Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
Standard Status：现行
Release Date：2006-03-27
Effective Date：2026-01-01
Language of Publication：中文简体
Standard Classification
ICS Number：71.040.40
CCS Number：G04
Related Standards
Referenced Standards：ISO 5725-2,ISO 17560,ISO 18114
Adopted Standards：ISO 14237:2010
Adopted Standard Name：《表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度》
Adoption Level：IDT
Publication Information
Number of pages：24
Number of words：30 K
Format：大16
Edition：1
Color Pages：0
Electronic Version：Yes
Color Images：No
Print Publication Date：2025-06-01
Standard Revision Information
Has Amendment：No
Other Information
Application Dept：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
Standard Type：CN
Standard Attribute：GB
Other Standard Number：20176
Drafter：李展平、郭冲、王梦琴、和平、王富芳、刘兆伦、郎玉博、李芹、张硕、刘可心、吴美璇、陈建、伏晓国
Drafting Organization：清华大学、中国地质大学(北京)、中国矿业大学(北京)、中国人民公安大学、北京大学、中山大学、中国工程物理研究院材料研究所
Management Organization：全国表面化学分析标准化技术委员会(SAC/TC 608)
Proposing Department：全国表面化学分析标准化技术委员会(SAC/TC 608)
