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Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
Standard in brief
Scope of Application：
本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。本文件适用于p<100>直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200 mm～450 mm的硅电极及硅环。
Basic information
Standard No：GB/T 41652-2022
Standard Name：刻蚀机用硅电极及硅环
English Name：Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
Standard Status：现行
Release Date：2022-07-11
Effective Date：2023-02-01
Language of Publication：中文简体
Standard Classification
ICS Number：29.045
CCS Number：H82
Related Standards
Referenced Standards：GB/T 1550,GB/T 1551,GB/T 1554,GB/T 1555,GB/T 1557,GB/T 1558,GB/T 6624,GB/T 11073,GB/T 14264,GB/T 29505
Publication Information
Number of pages：12
Number of words：17 K
Format：大16
Edition：1
Color Pages：0
Electronic Version：Yes
Color Images：No
Print Publication Date：2022-07-01
Standard Revision Information
Has Amendment：No
Other Information
Application Dept：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
Standard Type：CN
Standard Attribute：GB
Other Standard Number：41652
Drafter：库黎明、孙燕、闫志瑞、张果虎、夏秋良、潘金平
Drafting Organization：有研半导体硅材料股份公司、山东有研半导体材料有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司
Management Organization：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
Proposing Department：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
