Chinese Standard: GB/T 48095-2026

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Measurement method for topographic parameters of high-aspect-ratio microstructures utilize microscopic interferometry

Standard in brief
Scope of Application：  
本文件描述了高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法的测量原理、测量装置、测量环境、样品、测量步骤、数据处理以及测量报告。
本文件适用于对可见光或近红外光透明的微纳器件中深宽比不大于50的高深宽比微结构形貌参数的检测与测量。

Basic information
Standard No：GB/T 48095-2026
Standard Name：高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法
English Name：Measurement method for topographic parameters of high-aspect-ratio microstructures utilize microscopic interferometry
Standard Status：即将实施
Release Date：2026-08-28
Effective Date：2027-03-01
Language of Publication：中文简体

Standard Classification
ICS Number：17.180.99
CCS Number：L50

Related Standards
Referenced Standards：GB/T 1031-2009,GB/T 25915.1-2021,GB/T 27418-2017,GB/T 33523.70-2020

Publication Information
Number of pages：28
Number of words：41 K
Format：大16
Edition：1
Color Pages：0
Electronic Version：Yes
Color Images：No
Print Publication Date：2026-08-01

Standard Revision Information
Has Amendment：No

Other Information
Application Dept：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
Standard Type：CN
Standard Attribute：GB
Other Standard Number：48095
Drafter：高志山、袁群、马剑秋、霍霄、雷李华、赵琳、何洪涛、徐爱东、时文华、鞠涛、史云涛、周维虎、施玉书、王璞、巩岩、李季、罗坤杰、徐志毅、陈红、夏长奉
Drafting Organization：南京理工大学、上海市计量测试技术研究院有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司、中国科学院微电子研究所、中国计量科学研究院、中国科学院空天信息创新研究院、齐之明光电智能科技(苏州)有限公司、南京智群光电技术有限公司、苏州热工研究院有限公司、浙江大学苏州工业技术研究院、无锡华润上华科技有限公司
Management Organization：全国光电测量标准化技术委员会(SAC/TC 487)、全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
Proposing Department：中国科学院