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Practice methods for nanotopography of 300 mm silicon wafer surface
Standard in brief
Scope of Application：
本文件描述了300 mm硅片表面0.2 mm~20 mm空间波长范围内的纳米形貌（NT）评价方法。
本文件适用于硅抛光片、硅外延片、绝缘体上硅（SOI）片等300 mm无图形硅片的评价。
Basic information
Standard No：GB/T 47906-2026
Standard Name：300 mm硅片表面纳米形貌的评价方法
English Name：Practice methods for nanotopography of 300 mm silicon wafer surface
Standard Status：即将实施
Release Date：2026-07-02
Effective Date：2027-02-01
Language of Publication：中文简体
Standard Classification
ICS Number：77.040
CCS Number：H21
Related Standards
Referenced Standards：GB/T 14264,GB/T 25915.1-2021
Publication Information
Number of pages：16
Number of words：15 K
Format：大16
Edition：1
Color Pages：0
Electronic Version：Yes
Color Images：No
Print Publication Date：2026-07-01
Standard Revision Information
Has Amendment：No
Other Information
Application Dept：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
Standard Type：CN
Standard Attribute：GB
Other Standard Number：47906
Drafter：朱晓彤、宁永铎、刘云霞、陈仁彬、张海英、张婉婉、徐新华、顾广安、高冰、陈猛、马砚忠、钟佑生、朱培文、杨杰
Drafting Organization：山东有研艾斯半导体材料有限公司、金瑞泓微电子(衢州)有限公司、西安奕斯伟材料科技股份有限公司、杭州中欣晶圆半导体股份有限公司、上海晶盟硅材料有限公司、浙江晶越半导体有限公司、上海超硅半导体股份有限公司、深圳中科飞测科技股份有限公司、郑州合晶硅材料有限公司、江苏神州半导体科技股份有限公司、扬帆半导体材料(江苏)有限公司
Management Organization：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
Proposing Department：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
