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Test method for crystalline quality of semiconductive single crystal—X-ray diffraction method
Standard in brief
Scope of Application：
本文件描述了利用X射线衍射仪测试半导体材料双晶摇摆曲线半高宽，进而评价半导体单晶晶体质量的方法。本文件适用于碳化硅、金刚石、氧化镓等单晶材料晶体质量的测试，硅、砷化镓、磷化铟等半导体材料晶体质量的测试也可参照本文件执行。
Basic information
Standard No：GB/T 42676-2023
Standard Name：半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法
English Name：Test method for crystalline quality of semiconductive single crystal—X-ray diffraction method
Standard Status：现行
Release Date：2023-08-06
Effective Date：2024-03-01
Language of Publication：中文简体
Standard Classification
ICS Number：77.040
CCS Number：H21
Related Standards
Referenced Standards：GB/T 14264,GB/T 14666,GB/T 32267
Publication Information
Number of pages：12
Number of words：17 K
Format：大16
Edition：1
Color Pages：0
Electronic Version：Yes
Color Images：No
Print Publication Date：2023-08-01
Standard Revision Information
Has Amendment：No
Other Information
Application Dept：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
Standard Type：CN
Standard Attribute：GB
Other Standard Number：42676
Drafter：何烜坤、刘立娜、李素青、庞越、马春喜、许蓉、任殿胜、王元立、朱晓彤、李向宇、杨阳、潘金平、王书明、赵松彬、林泉、李国平、张新峰、赵丽丽、夏秋良
Drafting Organization：中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、 北京通美晶体技术股份有限公司、山东有研半导体材料有限公司、弘元新材料(包头)有限公司、哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、国标(北京)检验认证有限公司、丹东新东方晶体仪器有限公司、有研国晶辉新材料有限公司、江苏卓远半导体有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司
Management Organization：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
Proposing Department：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
