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Determination of wavefront aberration in optical systems—Electro-optical Shack-Hartmann method
Standard in brief
Scope of Application：
本文件描述了采用夏克-哈特曼法测量光学系统波前像差的原理及方法、测量条件、设备及装置、测量步骤以及测量数据处理。
本文件适用于采用夏克-哈特曼法测量光学系统波前像差的测量，也适用于光学零件面形偏差的测量。
Basic information
Standard No：GB/T 44221-2024
Standard Name：光学系统波前像差的测定 夏克-哈特曼光电测量法
English Name：Determination of wavefront aberration in optical systems—Electro-optical Shack-Hartmann method
Standard Status：现行
Release Date：2024-07-24
Effective Date：2025-02-01
Language of Publication：中文简体
Standard Classification
ICS Number：17.180.99
CCS Number：L50
Publication Information
Number of pages：24
Number of words：31 K
Format：大16
Edition：1
Color Pages：0
Electronic Version：Yes
Color Images：No
Print Publication Date：2024-07-01
Standard Revision Information
Has Amendment：No
Other Information
Application Dept：国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
Standard Type：CN
Standard Attribute：GB
Other Standard Number：44221
Drafter：史国华、邢利娜、何益、杨金生、蔡建奇、王璞、刘春雨、韩森、洪宝玉、冯长有、包明帝、叶虹、谢桂华、伍开军、沈晨雁、郝华东
Drafting Organization：中国科学院苏州生物医学工程技术研究所、中国科学院光电技术研究所、中国标准化研究院、中国科学院空天信息创新研究院、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、苏州慧利仪器有限责任公司、中国计量科学研究院、长春奥普光电技术股份有限公司、浙江舜宇光学有限公司、成都科奥达光电技术有限公司、苏州一光仪器有限公司、舟山市质量技术监督检测研究院
Management Organization：全国光测量标准化技术委员会(SAC/TC 487)
Proposing Department：中国科学院
